經產相宣佈向美光科技提供1920億日元補貼
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【共同社10月3日電】日本經濟產業相西村康稔3日在內閣會議後的記者會上宣佈，向美國半導體巨頭美光科技的廣島工廠（廣島縣東廣島市）提供最多1920億日元（約合人民幣93億元）的補貼。此前已決定提供最多465億日元補貼，有意通過增額強化在經濟安全領域重要度上升的半導體供應鏈。
美光打算在廣島工廠設置日本首次引進的最尖端製造設備極紫外線（EUV）光刻裝置。圍繞用於生成式人工智能（AI）賀自動駕駛的新一代DRAM（動態隨機存取存儲器），計劃在2026年起的10年時間裡進行每月4萬枚左右的生產。
美光今年5月公佈了包括廣島在內的在日本國內最多投資5000億日元的計劃。此次政府補貼包含最多1670億日元設備投資費用、最多250億日元研究開發費。
半導體事關國力，各國政府均通過補貼增加招商力度。日本政府也為強化半導體生產基礎，決定了對台灣積體電路製造公司（TSMC）熊本工廠最多4760億日元、對國內巨頭鎧俠最多929億日元的補貼。西村在記者會上強調切實投資需求預期增長的領域很重要，表示力爭實現半導體穩定供應。（完）
文章引用自 https://tchina.kyodonews.net/news/2023/10/e41e4b457784-1920.html
